年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99.996%)

三氟化氮（Stickstoff Trifluoride），化学式NF3，是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体，具有⼴泛的应⽤领域。
在微电⼦⼯业中，三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体，在半导体芯⽚显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刺⽓当刺彌当清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放出⼎杰兏嶭应⽤。三氟化氮还可⽤作⾼能燃料，并且在⽕箭发射中作为氧化剂和厀艉剂和掂

Stickstofftrifluorid, chemesch Formel NF3, ass e staarkt Oxidatiounsmëttel. Als wichteg industriell speziell Gas, et huet eng breet Palette vun Uwendungen.
An der Mikroelektronikindustrie ass Stickstofftrifluorid en exzellente Plasma Ätzgas; Am Hallefleederchip, e flaache Panel Display, opteschen Faser, Photovoltaikzellen an aner Fabrikatiounsfelder gëtt Stickstofftrifluorid haaptsächlech als Plasma Ätsgas a Reaktiounshöhlereinigungsmëttel benotzt.
Et kann och an héich-Energie chemesch Laser benotzt ginn fir seng Applikatioun z'erreechen andeems se mat Waasserstoff reagéieren fir eng grouss Quantitéit un Hëtzt an engem Moment ze emittéieren. Stickstofftrifluorid gëtt och als héichenergeescht Brennstoff an als Oxidator an Drivstoff bei Rakéitestarten benotzt.